離子源
OIS-GL
OIS-GL是一種用于基板清洗和離子輔助而開發(fā)的低電壓大電流無柵網(wǎng)式離子源。 配備于Gener-1300及OTFC系列鍍膜機，可生產(chǎn)各種光學(xué)濾光片。
- 特征
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適用于基板清洗或塑料基板的鍍膜
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低能量、高電流，照射面積可達到φ 1200mm 以上
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設(shè)計的冷卻方式，大大提高了穩(wěn)定性
- 規(guī)格
- 型號 OIS-GL
- 尺寸 φ163mm × 200mm (H)
- 放電電壓 50V - 300V
- 放電電流(max) 8A
- 氣體流量 5sccm - 50sccm（氬氣）10sccm - 100sccm（氬氣）
- 使用壓力 3.5 × 10-2 Pa 以下
- 水冷方式 Anode and beam unit
- 中和器 Tungsten (W) filament
